摄影界中光学滤光片的作用有哪些？

在探测器制造加工工艺中，很多都涉及清洗技术，如芯片制作期间的基片清洗，外延生长片的清洗，镀膜加工前基片的清洗，以及滤光片等光学元件加工的清洗等。

随着科技的发展，半导体器件的生产对清洁度的要求越来越高。也不断有复杂的新洗净系统和设备投入使用。在光学仪器、精密机械以及电子机械领域也越来越多地需要精密工业清洗。无论是半导体薄膜的生长还是基于半导体薄膜的器件制备，衬底的清洗和处理是必不可少的一个环节。

激光镜片镀膜前经过一系列的清洗过程之后，在基片放入真空室的过程中以及在真空室抽取真空的过程中，装入镀膜设备真空室以及进行蒸镀前，基片均有可能被二次污染，从而影响滤光片蒸镀效果和薄膜特性，通常采用离子束清洗技术，对基片进行的最后一道处理，以消除二次污染，保证基片在镀膜前的真正清洁。离子束清洗技术的清洁机理是: 吸附或黏附在基片上的污物在高能离子束的轰击下脱离基片; 或通过高热能的氧离子氧化污物分子，使它易于被离子碰撞而脱离基片。

光学滤光片的作用很大。广泛用于摄影界。一些摄影大师拍摄的风景画，为什么主景总是那么突出，是怎样做到的？这就用到了滤光片。比如你想用相机起拍一朵黄花，背景是蓝天、绿叶，如果按照平常拍，就不能突出“黄花”这个主题，因为黄花的形象不够突出。但是，如果在镜头前放一个黄色滤光片，阻挡一部分绿叶发出的绿光、蓝天发出的蓝光，而让黄花发出的黄光大量通过，这样，黄花就显得十分明显了，突出了“黄花”这个主题。

一般情况下，薄膜制备工艺决定了薄膜都具有柱状的微结构，该结构使薄膜内部存在一定空隙，并造成薄膜器件光学特性和机械特性的不稳定，因此对某些在特殊环境下使用的薄膜必须进行各种环境试验。

1.恒温恒湿试验。它是最常规的环境试验。一般在相对湿度95%，温度为55度的环境下存放6-24小时；或在40度以下存放10天；或在室温至80度的环境下做多次循环试验，然后检测薄膜样品在试验前后的膜层的机械和光学特性的变化。例如：对于要求较高的窄带滤光片，就要进行恒温恒湿试验，然后测试其透射率峰值的位置变化及峰值大小的变化。

2.液体浸蚀。一般是在室温下将薄膜样品浸泡在每升含45g盐的溶液中，或根据用户要求在稀释的酸或碱溶液中浸泡6-24小时，试验后测试薄膜的光学特性和机械特性，并与试验前测的数值进行比较。

3.温度试验测试。薄膜的热膨胀系数一般比基底的热膨胀系数大一个数量级，加之膜层存在的内应力，从而在高温度情况下，使膜层与膜层之间可能形成位错，因此薄膜在高温度下使用时，必须经过烘烤试验。