激光镜片生产对清洁度的要求越来越高

激光镜片镀膜前经过一系列的清洗过程之后，在基片放入真空室的过程中以及在真空室抽取真空的过程中，装入镀膜设备真空室以及进行蒸镀前，基片均有可能被二次污染，从而影响滤光片蒸镀效果和薄膜特性，通常采用离子束清洗技术，对基片进行的后一道处理，以消除二次污染，保证基片在镀膜前的真正清洁。离子束清洗技术的清洁机理是: 吸附或黏附在基片上的污物在高能离子束的轰击下脱离基片; 或通过高热能的氧离子氧化污物分子，使它易于被离子碰撞而脱离基片。

在探测器制造加工工艺中，很多都涉及清洗技术，如芯片制作期间的基片清洗，外延生长片的清洗，镀膜加工前基片的清洗，以及滤光片等光学元件加工的清洗等。

随着科技的发展，半导体器件的生产对清洁度的要求越来越高。也不断有复杂的新洗净系统和设备投入使用。在光学仪器、精密机械以及电子机械领域也越来越多地需要精密工业清洗。无论是半导体薄膜的生长还是基于半导体薄膜的器件制备，衬底的清洗和处理是必不可少的一个环节。

激光镜片荧光滤光片是荧光成像滤光片的简称，是应用于生物医学和生命科学仪器的关键元件，主要作用是在生物医学荧光检验分析系统中分离和选择物质的激发光与发射荧光的特征波段光谱。通常要求滤光片截止深度在OD5以上。应用于荧光检测系统的滤光片的核心要求是高截止陡度、高透过率、高定位精度、高的截止深度以及优良的环境稳定性。

荧光滤光片一般包含三片组合，即激发滤光片、发射滤光片和二色镜。

激发滤光片：在荧光显微镜中，只有激发荧光的波长可通过的滤光片。过去使用的是短波通滤光片，现在基本上都使用带通滤光片。其外壳上刻有箭头，指示所推荐的光的传播方向。

发射滤光片：选择并传输样本发出的荧光，其他范围光线截止。发射光的波长比激发光的波长要长（更加靠近红色）。可以选择带通滤光片或者长波通滤光片作为发射滤光片。其外壳上刻有箭头，指示所推荐的光的传播方向。